DUV1 [산업 분석] 리소그래피의 기술적 진화 : DUV 멀티 패터닝부터 High-NA EUV까지 1. 들어가며 : 해상력을 결정하는 물리적 변수반도체 미세 공정의 핵심은 웨이퍼 위에 구현할 수 있는 최소 선폭(CD, Critical Dimension)을 줄이는 것입니다. 노광 공정의 해상력은 레일리(Rayleigh) 공식으로 결정됩니다. \[ R = k_1 \frac{\lambda}{\text{NA}} \]\( \text{R} \) : 해상도. 값이 작을수록 더 미세한 패턴 구현 가능\( k_1 \) : 공정 상수. 물리적 하한은 0.25이며, OPC 등 보정 기술을 활용해 실제 양산에서는 0.28~0.35 수준으로 운용\( \lambda \) : 광원의 파장\( \text{NA} \) : 렌즈의 개구수. 빛을 집광하는 능력으로 \( \text{NA} = n\sin\theta \) 로 정의 리소그래.. 2026. 3. 7. 이전 1 다음 반응형
