EUV2 [산업 분석] 중국이 7나노까지 왔다. 화홍그룹의 도전과 화웨이 EUV의 실체 1. 들어가며 : 불가능에 도전하는 중국2022년 8월, SMIC가 7나노 공정 개발에 성공했다는 소식이 나왔을 때 반도체 업계는 충격을 받았습니다. EUV 장비 없이는 7나노가 불가능하다는 것이 당시의 상식이었습니다. 미국 정부는 즉각 수출통제 기준을 강화하며 중국의 추가 도약을 막으려 했습니다.그로부터 약 4년이 지난 2026년 3월, 이번에는 중국 파운드리 2위 화홍그룹이 7나노 양산 준비를 마쳤다는 보도가 나왔습니다. SMIC 한 곳만의 7나노가 아니라, 중국에서 7나노를 만들 수 있는 팹이 두 곳이 된다는 이야기입니다. 동시에 화웨이는 ASML의 EUV 장비를 대체할 자체 노광장비를 개발 중이라는 소식도 구체화되고 있습니다.중국의 반도체 자립 서사가 한 단계씩 현실이 되고 있습니다. 2. 화홍.. 2026. 3. 31. [산업 분석] 리소그래피의 기술적 진화 : DUV 멀티 패터닝부터 High-NA EUV까지 1. 들어가며 : 해상력을 결정하는 물리적 변수반도체 미세 공정의 핵심은 웨이퍼 위에 구현할 수 있는 최소 선폭(CD, Critical Dimension)을 줄이는 것입니다. 노광 공정의 해상력은 레일리(Rayleigh) 공식으로 결정됩니다. \[ R = k_1 \frac{\lambda}{\text{NA}} \]\( \text{R} \) : 해상도. 값이 작을수록 더 미세한 패턴 구현 가능\( k_1 \) : 공정 상수. 물리적 하한은 0.25이며, OPC 등 보정 기술을 활용해 실제 양산에서는 0.28~0.35 수준으로 운용\( \lambda \) : 광원의 파장\( \text{NA} \) : 렌즈의 개구수. 빛을 집광하는 능력으로 \( \text{NA} = n\sin\theta \) 로 정의 리소그래.. 2026. 3. 7. 이전 1 다음 반응형
